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山東力冠微電子裝備

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適用領(lǐng)域：?jiǎn)尉L(zhǎng)、外延生長(zhǎng) Relevant Industries: Single Crystal Growth, Epitaxial Growth 適用材料: ?GaN（單晶）、AIN（單晶/外延）、Ga2O3（外延） Suitable for Processing: GaN (single crystal),AlN (single crystal / epitaxial)Ga2O3 (epitaxial) 晶圓尺寸:12/ 8/6 英寸 Wafer Size: 12/8/6 inch

適用領(lǐng)域：?jiǎn)尉L(zhǎng) Relevant Industries: ?Single Crystal Growth 適用材料: ?SiC、AIN Suitable for Processing: ?SiC (Silicon Carbide), AlN (Aluminum Nitride) 晶圓尺寸: ?12/8 英寸 Wafer Size: 12/8 inch

適用領(lǐng)域：?jiǎn)尉L(zhǎng) Relevant Industries: ?Single Crystal Growth 適用材料: ?Si、AIN Suitable for Processing: ?SiC (Silicon Carbide), AlN (Aluminum Nitride) 晶圓尺寸: ?12/8 英寸 Wafer Size: 12/8 inch

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